PVD的全寫為Physical Vapor Deposition,中文翻譯為物理氣相沉積. 采用陰極電弧等離子體沉積技術(shù)。陰極電弧等離子體沉積是相對(duì)較新的薄膜沉積技術(shù)，它在許多方面類似于離子鍍技術(shù)。其優(yōu)點(diǎn)：在發(fā)射的粒子流中離化率高，而且這些離化的離子具有較高的動(dòng)能（40-100eV)。許多離子束沉積的優(yōu)點(diǎn)，如提粘著力，增加態(tài)密度、對(duì)化合物膜形成具有高反應(yīng)率等優(yōu)點(diǎn)在陰極電弧等離子體沉積中均有所體現(xiàn)。而陰極電弧等離子體沉積又具有自己一些獨(dú)特優(yōu)點(diǎn)，如可在較多復(fù)雜形狀基片上進(jìn)行沉積，沉積率高，涂層均勻性好，基片溫度低，易于制備理想化學(xué)配比的化合物或合金。
   通過蒸發(fā)過程將陰極材料蒸發(fā)是源于高電流密度，所得到的蒸發(fā)物由電子、離子、中心氣相原子和微粒組成。在陰極電弧點(diǎn)，材料幾乎百分百被離化，這里離子在幾乎垂直于陰極表面的方向發(fā)射出去，當(dāng)帶有高能量的鉻離子碰到氮?dú)夂蟊銜?huì)馬上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，變成氣態(tài)的氮化鉻分子了。

氮化鈦百科介紹

由于氮化鈦具有高熔點(diǎn)、高硬度、高溫化學(xué)穩(wěn)定性及優(yōu)良的導(dǎo)熱性能、導(dǎo)電性能、光學(xué)性能、生物相容性，適用于耐高溫、耐磨損、低輻射玻璃涂層及醫(yī)學(xué)領(lǐng)域。手飾工業(yè)上用氮化鈦?zhàn)鹘鹕苛希饕糜谕勘須ぁ?/span>
【熔點(diǎn)（℃）】2950
【性狀】有二氮化二鈦(Ti2N2)和四氮化三鈦(Ti3N4)兩種。二氮化二鈦為黃色固體。溶于煮沸的王水。遇到熱的氫氧化鈉溶液則有氨放出。四氮化三鈦的性質(zhì)與二氮化二鈦相似。
【制備或來源】可由鈦和氮在1200℃直接反應(yīng)制得。涂層可由四氯化鈦、氮?dú)狻錃饣旌蠚怏w通過氣相沉積法形成。二氮化二鈦由金屬鈦在900～1000℃的氮或氨中加熱而得。四氮三鈦由四氯化鈦在1000℃的氨中加熱而得。

氮碳化鈦好的介紹

TiCN 具有比 TiN 更低的摩擦系數(shù)和更高的硬度 , 鍍了氮碳化鈦的工具更加適合于切割如不銹鋼 , 鈦合金和鎳合金等堅(jiān)硬材料，更具耐磨性和高溫穩(wěn)定性，可顯著提高切削工具的壽命。 性質(zhì)：深灰色粉末。具有較低的內(nèi)應(yīng)力，較高的韌性，良好的潤(rùn)滑性，以及高硬度、耐磨損等特性，適用于要求較低的摩擦系數(shù)及較高硬度的場(chǎng)合。

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